µÎ ¹øÂ° ±â¾÷Àº ±¹³» ÃÖ°íÀÇ ±â¼úÀ» º¸À¯ÇÑ Áß°ß±â¾÷ ÁÖ¼º¿£Áö´Ï¾î¸µÀÌ´Ù. ÁÖ¼º¿£Áö´Ï¾î¸µ¿¡¼ ¼¼°è ÃÖÃÊ·Î °³¹ßÇÑ ÀåºñÀÎ SDP CVD (CVD & ALD) - Space Divided Plasma Chemical Vapor Deposition- ´Â ½Å°³³ä ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶Àåºñ·Î, ÇöóÁ·Î ÀÎÇÑ ±âÆÇ ¼Õ»ó ¾øÀÌ 300µµ ÀÌÇÏÀÇ Àú¿Â¿¡¼ ¿ì¼öÇÑ ÃÖ°íÀÇ ¸·ÁúÀ» ±ÕÀÏÇÏ°Ô Çü¼ºÇÑ´Ù. ÁÖ¼º¿£Áö´Ï¾î¸µÀÇ ±â¼ú·ÂÀÇ ¹ÙÅÁ¿£ Àåºñ¸¦ ¸ðµÎ ÀÚü ±â¼ú·Î °³¹ßÇÏ¸é¼ ±¹»êÈÀ²À» 70%·Î ²ø¾î¿Ã¸° ȲöÁÖ ´ëÇ¥ÀÇ Áý³äÀÌ ÀÖ¾ú´Ù. ȲöÁÖ ´ëÇ¥´Â ±¹»ê±â¼úÀÇ Á߿伺À» ÀÏÂġ ±ú´Þ¾Æ ±¹»êÈÀ²¿¡ ³ë·ÂÇß´Ù.
Çѱ¹ÇÁ·ÎÃ౸Áß°è
Çѱ¹¾ß±¸Áß°è
èÇǾ𽺸®±×ºÐ¼®
±¹ÃàºÐ¼®
¿£Æ®¸®ÆÄ¿öº¼
¼¼¸®¿¡aºÐ¼®
2000³â 4¿ù ȸ»ç¸¦ ¼³¸³ÇÏ¿© 2003³â¿¡´Â ÈÞ´ëÀüÈ Ä«¸Þ¶ó¿ë ÃÖ¼Ò¿ë VGA¸¦ °³¹ßÇß°í, 2005³â¿£ ¾÷°è ÃÖÃÊ AF(Auto Focus) ³»Àå 200¸¸ È¼Ò CMOS À̹ÌÁö ¼¾¼¸¦ °³¹ßÇß´Ù. 2000³â ¼³¸³ ´ç½ÃºÎÅÍ Áö±Ý±îÁö Çȼ¿Ç÷¯½º´Â ÇöÀç ½ÃÀåÀÇ º¯È¿¡ ¹ß¸ÂÃç ¼ºÀåÇÏ¸ç µµÀü°ú ½ÇÆÐ, ±×¸®°í ³ë·ÂÀÇ ¿ª»ç¸¦ ½á ¿Ô´Ù. ÇöÀç´Â º¸¾È °¨½ÃºÐ¾ß, ÀÚµ¿Â÷ ¿µ»ó ÀåÄ¡ºÐ¾ß, ÀÇ·á ¿µ»ó ÀåÄ¡ºÐ¾ß¿¡¼ ½ÃÀå ¼±µµÀû °íºÎ°¡°¡Ä¡ Á¦Ç° °³¹ß¿¡ ÁýÁßÇϰí ÀÖ´Ù. Äڷγª 19 ¹ÙÀÌ·¯½º·Î Èûµç »óȲ¿¡µµ Áß±¹ ½ÃÀå ÁøÃâÀ» À§ÇØ ¾Ö¾²´Â Çȼ¿Ç÷¯½ºÀÇ °í±ººÐÅõ À̾߱⸦ µé¾îº»´Ù.